반응형 ASML2 ASML, 최초의 High NA EUV 장비 올해 공급 - ASML은 업계 최초로 분해능 0.55 NA(numerical aperture)를 가진 EUV(extreme ultraviolet) 리소그래피 스캐너를 차질 없이 올해 공급할 예정이라고 이번 주 CEO가 발표. ASML의 Twinscan EXE:5000는 (실생산이 아닌) 연구개발과 고객들이 장비의 신기술 및 기능에 익숙해질 목적으로 주로 사용될 것. High-NA 장비의 실생산 사용은 2025년 이후로 계획 - Twinscan EXE:5000는 비공개 고객사에 전달될 예정인데, 해당 고객사는 이전에 18A 공정에 High-NA 스캐너를 사용하겠다고 밝혔던 인텔로 추정. 그러나 2025년 이후에나 실생산용으로 쓸 수 있으므로, 인텔은 어플라이드 매터리얼사의 Centura Sculpta 시스템을 이용한.. 2023. 9. 22. ASML, intel 7nm 공정은 TSMC의 5nm와 동급 ASML의 기술 개발 부사장인 Tony Yen은 intel이 EUV 리소그래피 장비의 주요 고객이지만 아직 그 회사는 7nm 공정 양산은 보지 못했다고 확인해주었습니다. 그는 또한 현재 가장 최첨단 양산 기술은 5nm 노드이며 TSMC와 삼성이 모두 출시했다고 말했으며, 인텔의 설계 사양이 Intel의 7nm는 TSMC 및 Samsung의 5nm와 비슷 하다고 덧붙였습니다. 물론 자신에 대한 높은 기준을 갖는 것도 좋지만 진행이 느리다는 것도 분명한 사실입니다. 인텔의 최근 발표에 따르면 7nm공정은 2023 년까지 양산되지 않을 것이라고 하였습니다. 당연히 TSMC와 삼성은 모두 1년 동안 3nm를 대량 생산할 것이죠. 2021. 3. 16. 이전 1 다음 반응형
