반응형 최초의 High NA EUV 장비 올해 공급1 ASML, 최초의 High NA EUV 장비 올해 공급 - ASML은 업계 최초로 분해능 0.55 NA(numerical aperture)를 가진 EUV(extreme ultraviolet) 리소그래피 스캐너를 차질 없이 올해 공급할 예정이라고 이번 주 CEO가 발표. ASML의 Twinscan EXE:5000는 (실생산이 아닌) 연구개발과 고객들이 장비의 신기술 및 기능에 익숙해질 목적으로 주로 사용될 것. High-NA 장비의 실생산 사용은 2025년 이후로 계획 - Twinscan EXE:5000는 비공개 고객사에 전달될 예정인데, 해당 고객사는 이전에 18A 공정에 High-NA 스캐너를 사용하겠다고 밝혔던 인텔로 추정. 그러나 2025년 이후에나 실생산용으로 쓸 수 있으므로, 인텔은 어플라이드 매터리얼사의 Centura Sculpta 시스템을 이용한.. 2023. 9. 22. 이전 1 다음 반응형
